알루미늄 질화물 튜브
알루미늄 질화물 (ALN) 튜브 : 고성능 기술 세라믹 솔루션
뛰어난 성능 특성
열 관리 속성
뛰어난 열전도율 (170-220 w/m · k) - 독성 문제가없는 베릴리아와 비교할 수 있습니다.
낮은 열 팽창 (4.5 × 10 ℃) - 반도체 호환성의 실리콘과 일치
고온 안정성 - 불활성 대기에서 최대 1,380도까지 무결성을 유지합니다.
전기 및 기계적 특성
우수한 전기 절연 (10¹³ -10 ¹⁴ Ω · CM 부피 저항성)
높은 유전체 강도 (15-20 kv/mm)
적당한 기계적 강도 ({300-400 MPA Flexural)
화학 저항
알루미늄 및 구리를 포함한 용융 금속에 내성
산화물 세라믹과 달리 대기 감소에 안정적입니다
가수 분해 저항성 - 경쟁 질화물보다 우수합니다
주요 산업 응용 분야
1. 반도체 제조
웨이퍼 처리 부품 - CVD 및 에칭 장비의 경우
혈장 격리 튜브 - 건식 에칭 시스템
히터 및 척 구성 요소 - 웨이퍼 열 처리
2. 전력 전자 장치
방열판 튜브 - 고출력 LED 포장 용
절연 인클로저 - 고전압 전력 모듈
RF/마이크로파 구성 요소 - 저 손실 유전체 응용 프로그램
3. 고급 재료 처리
크리스탈 성장 도가니 - 갈륨 아르 세나이드 생산을위한
금속 기화 용기 - 진공 증착 시스템에서
열 인터페이스 구성 요소 - 고온 용광로 용
4. 항공 우주 및 방어
레이더 구성 요소 하우징 - 전자 레인지 전파 특성
열 관리 시스템 - 항공 전자 냉각 용
대안에 대한 물질적 이점
Beryllia보다 안전 - 독성이없는 비슷한 열 성능
Alumina - 6-8 × 더 나은 열 소산보다 열 전도성
실리콘 카바이드보다 더 안정적 - 산화 저항성이 향상됩니다
기술 키워드 :
알루미늄 질화물 튜브 특성, 높은 열전도도 세라믹, ALN 기술 사양, 반도체 등급 도자기
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알루미늄 질화물 파이프항목 : 알루미늄 질화물 파이프자세히 보기
재료 : Aln
Size: ID >1mm, 길이<400mm
표면 거칠기 : ra 0.2-3.2 um
모양 : 원통형 및 맞춤형
프로세스 : 건식 프레스 또는 등방성 프레스, 압력이없는 소결, 정밀 가공, 표면 연마 -
ALN 세라믹 튜브항목 : ALN 세라믹 튜브자세히 보기
재료 : Aln
Size: ID >1mm, 길이<400mmm
표면 거칠기 : ra 0. 2-3. 2UM
모양 : 원통형 및 맞춤형
프로세스 : 건식 프레스 또는 등방성 프레스, 압력이없는 소결, 정밀 가공, 표면 연마
왜 우리를 선택하십시오
생산 라인
Chipnano에는 COLL ISSOSTATIC PRESSING (CIP) 기계, HIP (Hot Isostatic Pressing) 기계, 진공 유도 용융 용광로, 진공 소결 용광로, 진공 증류 용광로, 진공 핫 프레스 용광로, 고온 소결 용광로 및 다양한 금속 생산에 사용되는 전체 생산 및 가공 시설이 장착되어 있습니다.
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